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| 磁控濺射靶材的承載功率分析？ |
| 發(fā)布時間：2014-10-08 瀏覽： 次 |
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1、靶材面積與承載功率范圍 (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。 (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。 (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶(S槍)功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實(shí)際承載功率 磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。 磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。 考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的最終使用時的承載功率，直接水冷卻靶實(shí)際的承載最大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實(shí)際承載最大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。 磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設(shè)計(jì)“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。 其最終使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。 本文由愛加真空(http://www.jxwlbj.com)收集整理，我公司專業(yè)提供進(jìn)口真空系統(tǒng)銷售和維修服務(wù)，歡迎來電咨詢! 推薦閱讀 |
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