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| ?真空鍍膜設(shè)備是怎么工作的？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2024-11-28 瀏覽： 次 |
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?真空鍍膜設(shè)備?的工作原理主要基于物理沉積現(xiàn)象，具體分為蒸發(fā)和濺射兩種主要方式。 ?蒸發(fā)鍍膜?：在真空狀態(tài)下，通過(guò)電阻加熱、電子槍加熱等方式使靶材(待鍍材料)蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子在真空環(huán)境中沉積在基片(待鍍物體)上，形成薄膜。這種方式適用于金屬、合金等材料的鍍膜。 ?濺射鍍膜?：磁控濺射是一種常見(jiàn)的濺射鍍膜方式。在真空室中，通過(guò)磁鐵和電場(chǎng)的作用，使惰性氣體(如氬氣)電離產(chǎn)生等離子體。 等離子體中的離子在電場(chǎng)作用下加速撞擊靶材，使靶材表面的原子濺射出來(lái)并沉積在基片上形成薄膜。這種方式適用于制備高純度的金屬膜、化合物膜等。 真空鍍膜設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域 真空鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、顯示、光伏、工具鍍膜、裝飾鍍膜和功能鍍膜等領(lǐng)域。其高純度和均勻性的特點(diǎn)使其在電子、光學(xué)、裝飾等行業(yè)中有重要應(yīng)用。 |
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